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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

鄭州科佳電爐有限公司


  • 四路高溫真空CVD設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200-S60K-4C型四路高溫真空CVD設(shè)備由KJ-T1200滑動(dòng)式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成,溫度可以達(dá)到1200度,極限真...

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200-S60K-4C所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 1200℃石墨烯生長(zhǎng)爐

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200-S6012LK1-4Z5S型石墨烯生長(zhǎng)爐由KJ-1200T管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成,溫度可以達(dá)到1200度,可以是單...

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 混氣管式PECVD系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統(tǒng),由KJ-T1200單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計(jì)、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 1200℃高溫真空CVD設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設(shè)備由KJ-T1200滑動(dòng)式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 1200度三溫區(qū)CVD管式爐

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-1200T-S60LK3-3FZ型CVD管式爐由KJ-T1200管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成,溫度可以達(dá)到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三...

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-1200T-S60LK3-3FZ所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 石墨烯生長(zhǎng)爐PECVD設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制備機(jī)是由KJ-T1200開啟式滑軌管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計(jì)氣路系統(tǒng)、等離子電源系統(tǒng)組成

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200-S60LC-H2所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 3通道CVD設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 簡(jiǎn)單介紹:KJ-T1600CVD是一種管式爐,具有80mm直徑的氧化鋁管和三通道質(zhì)量流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng)

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1600 -3M所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 三溫區(qū)CVD設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品特點(diǎn):1、控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過(guò)沖,性能可靠,操作簡(jiǎn)單

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-OTF-1700-F5所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 雙爐體CVD設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:該雙爐體CVD系統(tǒng)為定制款,適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200-W2所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)技術(shù)是借助于輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜技術(shù)生長(zhǎng)的一種系的制備技術(shù)

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-PECVD-D1所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 混氣PECVD設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品描述:KJ-T1200PECVD是一種PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)的管式爐系統(tǒng),它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空...

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200 PECVD所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 1200度CVD設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200CVD是一種管式爐,配備100mm直徑石英管、真空泵和五通道質(zhì)量流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng)

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200-S440所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • PECVD系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:該產(chǎn)品是由射頻電源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成,適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積,同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS...

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200-PE所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 1600 CVD 系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-CVD是一種分體式管式爐,配備60mm直徑的石英管、真空泵和四通道質(zhì)量流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng)

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1600 CVD所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 卷對(duì)卷PECVD設(shè)備

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:卷對(duì)卷式PECVD是等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積設(shè)備(PECVD),并加裝了收放卷裝置

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200-JCY所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 1200℃PECVD系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-PECVD-1200-50*300-F3所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 1200雙溫區(qū)觸摸屏CVD系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 簡(jiǎn)介:KJ-T1200CVD是一種管式爐,配備60mm直徑氧化鋁管、真空泵和四通道質(zhì)量流量計(jì)+一個(gè)浮子流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng)

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 高溫化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:該高溫化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的工作溫度為300℃至1600℃,配備真空泵,氣體混合裝置

    產(chǎn)品型號(hào):PT-CVD-1700-60*300-F3所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 箱式化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品介紹:液壓鐘罩氣氛爐采用爐體和智能控制一體化設(shè)計(jì),整個(gè)爐體美觀、大方

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-M1200(1400/1700)-Z所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

  • 旋轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品用途:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜

    產(chǎn)品型號(hào):KJ-T1200-S80-DZPECVD-R所在地:鄭州市更新時(shí)間:2026-03-10 在線留言

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